-
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
-
NLD-4000(ICPM)PEALD原子层沉积系统
-
三维原子层沉积系统 ALD
-
NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
-
NLD-3000 ALD原子层沉积系统
-
PICOSUN原子层沉积设备ALD
-
NLD-3500 (M) 原子层沉积系统(ALD)
-
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用存储电容电介质
所谓的原子层沉积技术,是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可
-
NLD-4000(M)原子层沉积系统
-
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net